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如何改善二氧化鉛鍍層和鈦基體之間的結合性能?

   2016-07-26 IP屬地 陜西6670
  改善二氧化鉛鍍層和基體之間的結合性能,可使用下述方法:涂敷含鉑和氧化鈀底層、在鈦 基體上鍍銀或鍍鉛銀合金、涂敷由錫銻化合物形成的半導體底層、涂敷鈦復合氧化物。
  (1)為了保護鈦基體和改善與表面層的結合性能,在鈦基體上涂敷含鉑和氧化鈀底層。由于鉑 和氧化鈀具有足夠高的氧過電位,所以可將鉑和氧化把作底層。除r鉑和把之外的鉑族金屬,如釕 、銥和銠等鉑族金屬雖然具有良好的導電性,但它們的氧過電位低于二氧化鉛的氧過電位,因此 不考慮使用。
  雖然鉑和氧化鈀可取得良好效果,但和其他金屬氧化物混合使用,可進一步改善鈦基體的結 合性能,并可減少鉑族金屬的使。可采用氧化鈦、摻雜氧化擔的氧化欽、氧化錫等。
  底層厚度約0. 05-3um,如果底層厚度小于0.05um,則基體得不到充分的覆蓋;底層厚度超過3  u,m,則會增大電阻。
 
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